一、E光點痣簡介

E光點痣技術是充分結合光能和射頻技術的綜合優(yōu)勢，用其獨特擁有的強脈沖光子作用于皮膚組織時產生光熱作用和光化學作用，選擇性的使E光能量集中作用于色素團顆粒和色素細胞，使其擊碎并汽化，另外，E光獨有的射頻能量使色素顆粒通過淋巴組織排出體外，而不影響周圍正常組織，從而達到去痣的作用。

二、做E光點痣流程詳解

術前準備

1、治療前必須注意避光和防曬。

2、治療前一周避免各種化學或機械刺激。

3、治療前2周勿用填充物或其他注射治療。

4、初步治療前進行過激光換膚的，至少需要等待3個月。

治療過程

1、受術者潔面后平臥診療床。

2、戴眼罩保護受術者眼睛。

3、在治療部位涂抹冷凝膠。

4、將治療頭輕放于待治療皮膚上，開始實施治療。

5、治療將持續(xù)約30分鐘。

術后護理

1、治療后必須注意避光和防曬。

2、治療后一周避免各種化學或機械刺激。

3、治療后2周勿用填充物或其他注射治療。

4、治療后3天避免對治療部位進行直接或間接的熱刺激。

三、做E光點痣恢復時間要多久

E光點痣的恢復時間較短，一般大致1-3天就有一個明顯的恢復效果。